1.鍍鋅特點(diǎn)：鋅的優(yōu)點(diǎn)是在干燥的空氣中相對穩定，不變色，在水或潮濕的環(huán)境中會(huì )與氧氣或二氧化碳反應形成保護膜。此外，鍍鋅不僅成本低，而且易于加工，其標準電位相對較負。因此，鋅的促成對不銹鋼甚至許多金屬均為陽(yáng)極性鍍層。用途：一般用于大氣或其他相對較好的環(huán)境中，注意不要用作摩擦部件。鍍鎘特點(diǎn)：與海洋性強的大氣和70攝氏度以上的熱水環(huán)境相比，鎘涂層穩定、耐腐蝕，具有良好的潤滑性能。然而，應該注意的是，當鎘熔化時(shí)，有毒氣體會(huì )產(chǎn)生，而且鎘鹽也是有毒的。

電鍍電鍍過(guò)程是將磁體接到直流電源陰極，浸入含有鍍層材料陽(yáng)離子的溶液中，陽(yáng)離子在電場(chǎng)作用下會(huì )遷移到陰極并轉化成金屬原子結晶到磁體表面。燒結釹鐵硼常用的有鍍鋅和鍍鎳，以及鎳銅鎳復合鍍。鋅在干燥空氣中比較穩定，在潮濕空氣或含氧的水中則會(huì )生成碳酸鋅薄膜，可延緩鋅的腐蝕速度，但在酸堿鹽溶液、海洋性大氣、高溫高濕空氣中耐腐蝕性較差，鈍化處理可顯著(zhù)提升鋅鍍層的耐蝕性。鎳容易與空氣中的氧形成極薄的鈍化膜，在常溫下對大氣、堿和一些酸有很好的耐腐蝕性，因此鍍鎳成為燒結釹鐵硼zui普遍的電鍍方式。

在PVD技術(shù)下，用于制備薄膜材料的物質(zhì)，統稱(chēng)為PVD鍍膜材料。經(jīng)過(guò)多年發(fā)展，PVD技術(shù)已成為目前主流鍍膜方法，主要包括濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜。②CVD技術(shù)CVD技術(shù)是在高溫下依靠化學(xué)反應、把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應生成薄膜材料的技術(shù)。PVD鍍膜材料產(chǎn)業(yè)鏈上下游關(guān)系2.PVD鍍膜材料下游太陽(yáng)能應用行業(yè)概況太陽(yáng)能光伏行業(yè)中，PVD鍍膜材料主要應用于太陽(yáng)能電池。按太陽(yáng)能電池的結構劃分，可分為結晶硅和薄膜太陽(yáng)能電池二大族群。